快速退火炉（RTP）
离子注入机（Implanter）
RCA槽式清洗机 （RCA Bench）
有机溶剂清洗台 （Solvent Wet Bench）
酸碱清洗机（Acid Wet Bench）
片盒清洗机（Cassette Wet Bench）
晶圆甩干机（Spin Dryer）
异丙醇甩干机（IPA Dryer）
氮气烘片机（Wafer Oven）
金属剥离机（Metal Lift-off）
湿法去胶机（PR Stripping）
晶圆研磨机（Wafer Grinder）
反应离子刻蚀机（RIE）
等离子体去胶机（Asher)
感应耦合等离子体刻蚀机(ICP)
深反应离子刻蚀机（DRIE)
离子束刻蚀扫描电子显微镜（FIB-SEM）
扫描电子显微镜（SEM）
原子力显微镜（AFM）
光学显微镜（Microscope）
台阶仪（Profiler）
晶圆翘曲测量设备（Wafer Bow）
椭偏仪（Ellipsometer）
干涉膜厚仪
四探针方阻测试设备
X射线衍射仪
接触式光刻机（Contact Mask Aligner）
步进式光刻机（stepper）
扫描式光刻机（Scanner）
匀胶显影机（Coating and Developing System)
光学显微镜(Microscope)
键合机（Wafer Bonder）
解键合机（DB12T）
低压化学气相沉积（LPCVD）系统
等离子增强化学气相淀积（PECVD）系统
原子逐层淀积（ALD）系统
电子束蒸发（Ebeam Evaporator）
磁控溅射机（Sputter）
电镀机（Electroplating System）
