研发实验室湿法区设备：有机溶剂清洗台（Solvent Wet Bench)

设备编号：WET01

设备名称：有机溶剂清洗台（Solvent Wet Bench)

设备型号：CSE-MX22-0236

主要功能：用于半导体电子元器件制造过程中有机去胶、清洗等湿法处理工艺。

技术指标：

1）样品尺寸：8英寸及以下；

2）手动清洗台；

3）具备水浴加热、超声清洗功能。