研发实验室湿法区设备：酸碱清洗台(Acid Wet Bench)

设备编号：WET02

设备名称：酸碱清洗台(Acid Wet Bench)

设备型号：CSE-MX22-0237

主要功能：用于半导体电子元器件制造过程中酸碱腐蚀、清洗等湿法处理工艺。

技术指标：

1）样品尺寸：8英寸及以下；

2）手动清洗台；

3）配备专用酸槽：HF、HCl；

4）水浴加热功能。