研发实验室湿法区设备:显影台 (Developing Bech)

设备编号:DEV01
设备名称:显影台 (Developing Bech)
设备型号:CSE-MX22-0235
主要功能:用于半导体电子元器件制造过程中显影等光刻处理工艺。
技术指标:
1)样品尺寸:8英寸及以下;
2)配备水枪、气枪、水槽。

设备编号:DEV01
设备名称:显影台 (Developing Bech)
设备型号:CSE-MX22-0235
主要功能:用于半导体电子元器件制造过程中显影等光刻处理工艺。
技术指标:
1)样品尺寸:8英寸及以下;
2)配备水枪、气枪、水槽。
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