研发实验室薄膜区设备：电子束蒸发(Ebeam Evaporator)

设备编号；EVP01

设备名称：电子束蒸发(Ebeam Evaporator)

设备型号：FSE FU-12PEB

主要功能：主要用于Ti、Ni、Al、Au等金属及合金薄膜材料蒸发制备。

技术指标：

1）样品尺寸：8”晶圆及以下；

2）淀积材料：Ti、Al、Ni、Au、Ge、Hf、Mo、Pt、Si等；

3）加热温度：≤350 ℃；

4）极限真空：5E-5 Pa；

5）速率：0.1 A/s-10 A/s可调 ；

6）膜厚不均匀性：≤±5%(基于500 nm)；

7）加工能力：6寸9片/炉；8寸6片/炉。