研发实验室光刻区设备：接触式光刻机（Mask Aligner）

设备编号；LTH01

设备名称：接触式光刻机（Mask Aligner）

设备型号：SUSS MA6/BA6 Gen4 

主要功能：将掩膜版上的图形1：1复制到涂布有光刻胶的晶圆上。

技术指标：

1）样品尺寸：6”及以下；

2）光源：LED，405 nm，365 nm；

3）接触工作模式：软接触、硬接触、接近式和真空接触式；

4）分辨率：1 μm；套刻精度：1.0 μm；

5）具备背面对准功能。