研发实验室光刻区设备:涂胶机(Spin Coater)

设备编号:PRC01
设备名称:涂胶机(Spin Coater)
设备型号:SUSS Labspin8 TT
主要功能:用于微电子、半导体等领域高精度薄膜涂层的制备。
技术指标:
1)样品尺寸:8英寸及以下;
2)旋涂速度:50-8000 rpm。

设备编号:PRC01
设备名称:涂胶机(Spin Coater)
设备型号:SUSS Labspin8 TT
主要功能:用于微电子、半导体等领域高精度薄膜涂层的制备。
技术指标:
1)样品尺寸:8英寸及以下;
2)旋涂速度:50-8000 rpm。
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