研发实验室刻蚀区设备：感应耦合等离子体刻蚀机（ICP）

设备编号：ICP01

设备名称：感应耦合等离子体刻蚀机（ICP）

设备型号：鲁汶 Haasrode Pishow

主要功能：使用感应耦合的等离子体，刻蚀金属、介质和半导体材料。

技术指标：

1）样品尺寸：6英寸及以下；

2）气体种类：O₂、CF₄、Ar、N₂、SF₆、CHF₃、BCl₃、Cl₂；

3）刻蚀材料：Ti、Al等金属；Si、GaN等半导体；

4）冷水机适用温度：-20℃-80℃。