研发实验室刻蚀区设备：反应离子刻蚀机（RIE）

设备编号：RIE01

设备名称：反应离子刻蚀机（RIE）

设备型号：Sentech Etchlab 200

主要功能：使用等离子体刻蚀介质材料

技术指标：

1）样品尺寸：8英寸或以下；

2）气体种类：O₂、CF₄、Ar、SF₆、CHF₃；

3）刻蚀材料：SiO₂、SiN等。