研发实验室刻蚀区设备：微波等离子体去胶机（Asher）

设备编号：PRS01

设备名称：微波等离子体去胶机（Asher）

设备型号： ASTRO PACTO-10H

主要功能：利用微波等离子体去除光刻胶

技术指标：

1）样品尺寸：8英寸及以下；

2）微波功率：50‐1200 W；

3）台盘加热：60‐200 oC；

4）气体种类：O₂、Ar。