研发实验室量测区设备：干涉膜厚仪（Thin Film Analyzer)

设备编号：THX01

设备名称：干涉膜厚仪（Thin Film Analyzer)

设备型号： Sentech Etchlab200

主要功能：利用光谱反射技术，测量晶圆表面薄膜的膜厚、折射率数值。

技术指标：

1）样品尺寸：8英寸及以下；

2）光谱范围：430 nm到930 nm；

3）测量膜厚范围： 20 nm - 25 μm。